技术指标
不锈钢真空室：φ600mm X H750mm，立式，不锈钢
观察窗：φ100mm(铅玻璃)
基片架：蒸发旋转基片架、平板型，样品尺寸φ100-400mm;旋转调速电机:0~20rpm，转速连续可调
真空系统：复合分子泵：抽速1600L/S，机械泵：抽速14L/S
极限真空：优于3.0x10-5Pa；连续30 min内，从大气抽至8.0x10-4Pa
蒸发源：电子枪坩埚：6穴坩埚可实现6种金属连续蒸镀；控制电源:8KVA
电阻蒸发电极： 3对
电阻蒸发电源：2000W
蒸发舟：钨舟、钼舟各10只
基片加热：真空专用加热器，最高加热温度500℃
温控仪：PID 智能温控仪,可调可控，控温精度士1C。
 
产品介绍
主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。